HENAN BON INDUSTRIAL CO.,LTD
모형: TF-2006
상표: 티안 푸
포장: 구매자의 요청으로
생산력: 100Ton
수송: Ocean,Land,Air,DHL，TNT
원산지: 중국
지원에 대한 지원: 50Ton
인증 : ISO
포트: Shanghai port,Qingdao port
지불 유형: L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union
인 코텀: FOB,CFR,CIF,EXW,FCA,CPT,CIP
P- 아세 톡시 스티렌은 포토 레지스트 (포토 레지스트)의 주성분으로서 폴리 파라 하이드 록시 스티렌을 합성하는데 사용될 수있다. 화학적으로 증폭 된 포토 레지스트의 폴리 -p- 하이드 록시 스티렌 계열은 현재 세계의 주요 포토 레지스트 제품이며, 포토 에칭 집적 회로를 처리하고 칩을 제조하는 핵심 기술 중 하나입니다. 포토 에칭 기술은 0.3-0.28μm의 선폭에서 심 자외선 (파장 248nm)까지 생산되어 0.18μm의 선폭을 생성하며, 극심한 자 외광 (파장 193nm)을 이용하여 라인 폭을 0.11 μm 마이크로 회로까지. 248nm 포토 레지스트는 일반적으로 필름 형성 수지로 폴리 -p- 하이드 록시 스티렌 유도체, 광산 발생 제로 아릴 요오도 늄염 또는 설포 늄염을 사용하고, 화학 증폭 기술을 사용하여 빛 아래에서 광산 발생 제를 방출합니다. 산은 폴리머의 가교를 촉매합니다 ( 음성 겔화) 또는 탈 보호 반응 (양성 젤라틴 화)에 의해 감광성을 크게 증가시킨다.
|
Metal Contents
|
AI | ＜10ppb | ＜1 |
| Ca | ＜10ppb | 4.5 | |
| Mg | ＜10ppb | ＜1 | |
| Cu | ＜10ppb | ＜1 | |
| Fe | ＜10ppb | ＜1 | |
| Na | ＜10ppb | 9.2 | |
| Ni | ＜10ppb | ＜1 | |
| Zn | ＜10ppb | ＜1 | |
| K | ＜10ppb | ＜1 | |
| Mn | ＜10ppb | ＜1 | |
| Cr | ＜10ppb | ＜1 | |
| SN | ＜10ppb | 0.2 | |
| AS | ＜01ppb | 0.3 |
| Test Items | Specification | Results |
| Appearance | Colorless Liquid | Colorless Liquid |
| Purity (GC) | ≥99.0% (area) | 99.22% (area) |
|
(w/w%) Water content by KF |
≤0.10% | 0.02% |
| Clarity (10%(w/w)Methanol Soivent) | Clear | Clear |
| Total Acid Number | ≤100(mgKOH/L) | 13.8(mgKOH/L) |
|
Polymerization inhibitor |
200ppm-300ppm | 256 |
제품 디렉토리 : 정밀 화학
Privacy statement: Your privacy is very important to Us. Our company promises not to disclose your personal information to any external company with out your explicit permission.
Fill in more information so that we can get in touch with you faster
Privacy statement: Your privacy is very important to Us. Our company promises not to disclose your personal information to any external company with out your explicit permission.
Contact Now