HENAN BON INDUSTRIAL CO.,LTD
![5- 티아 -1- 아자비 시클로 [4.2.0] 옥트 -2- 엔 -2- 카르 복실 산, 7-[[(2Z) -2- (2- 아미노 -4- 티아 졸릴) -2- (메 톡시이 미노) 아세틸] 아미노 ] -8- 옥소 -3-[[((1,2,5,6- 테트라 하이드로 -2- 메틸 -5,6- 디 옥소 -1,2,4- 트리 아진 -3- 일) 티오] 메틸]-, 나트륨 염 (1 : 2), (57357084, 57263355,6R, 7R)-CAS 74578](http://bsg-i.nbxc.com/product/4a/88/e1/4d80d33244e34abd6210ea0b56.jpg@4e_360w_360h.src)
제품 디렉토리 : 전자 화학 > 포토 레지스트 화학 물질
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![2H- 옥사 사이클로 테트라 데 시노 [4,3-d] 옥사 졸 -2,6,8,14 (1H, 7H, 9H)-테 트론, 4- 에틸 옥타 하이드로 -11- 메 톡시 -3a, 7,9,11,13,15- 헥사 메틸 -1- [4- [4- (3- 피리 디닐) -1H- 이미 다졸 -1- 일] 부틸] -10-[[3,4,6- 트리 데 옥시 -3- (디메틸 아미노) -bD- 자일로-헥 소피 라노 실] 옥시]-, (57357090, 57263361,3a](http://bsg-i.nbxc.com/product/ee/82/f3/8af5c3aa955330ae9bb4d6fe47.jpg@4e_360w_360h.src)
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