HENAN BON INDUSTRIAL CO.,LTD

[Henan,China]

회사유형:에이전트 , 배급 자 / 도매업자 , 무역 회사 , 제조사

주요 시장: 미주 , 아시아 , 동유럽 , 유럽 , 북유럽 , 오세아니아 , 서유럽 , 세계적인

수출업자:71% - 80%

인증서 표시:GMP, GSV, ISO/TS16949, ISO10012, ISO22000, ISO9001, REACH, RoHS, Test Report, UL

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홈 > 제품 리스트 > 전자 화학 > 포토 레지스트 화학 물질 > 2 (3H)-나프 탈 레논, 4,4a, 5,6,7,8- 헥사 하이드로 -4,4a- 디메틸 -6- (1- 메틸에 테닐)-, (57357551, 57263830,4R, 4aS, 6R)-CAS 4674 -50-4

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2 (3H)-나프 탈 레논, 4,4a, 5,6,7,8- 헥사 하이드로 -4,4a- 디메틸 -6- (1- 메틸에 테닐)-, (57357551, 57263830,4R, 4aS, 6R)-CAS 4674 -50-4

Name: 2 (3H)-나프 탈 레논, 4,4a, 5,6,7,8- 헥사 하이드로 -4,4a- 디메틸 -6- (1- 메틸에 테닐)-, (57357551, 57263830,4R, 4aS, 6R)-CAS 4674 -50-4
Brand: HENAN BON INDUSTRIAL CO.,LTD
Rating: 4.0 (26 reviews)

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제품 설명

Overview

이름 : 2 (3H)-나프 탈 레논, 4,4a, 5,6,7,8- 헥사 하이드로 -4,4a- 디메틸 -6- (1- 메틸에 테닐)-, (57357552, 57263831,4R, 4aS, 6R)-
CAS 번호 : 4674-50-4
공식 : C15H22O
분자량 : 218.3346
동의어 :
(4R, 4aS, 6R) -4,4a- 디메틸 -6- (프로 프 -1- 엔 -2- 일) -4,4a, 5,6,7,8- 헥사 하이드로 나프탈렌 -2 (3H)-온; 4R, 4aS, 6R) -4,4a- 디메틸 -6- 프로 프 -1- 엔 -2- 일 -3,4,5,6,7,8- 헥사 하이드로 나프탈렌 -2- 온;

EINECS : 225-124-4
밀도 : 0.96 g / cm3
비점 : 760 mmHg에서 318.6 ° C
인화점 : 142.1 ° C
외관 : 무색 결정

제품 디렉토리 : 전자 화학 > 포토 레지스트 화학 물질

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