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4- 에틸 페놀 아세테이트 CAS 2628-16-2
  • 4- 에틸 페놀 아세테이트 CAS 2628-16-2

4- 에틸 페놀 아세테이트 CAS 2628-16-2

    지불 유형: L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union
    Incoterm: FOB,CFR,CIF,EXW,FCA,CPT,CIP
    최소 주문량: 10 Gram
    배송 시간: 7 일
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기본 정보

모형: TF-2006

Additional Info

포장: 구매자의 요청으로

생산력: 100Ton

상표: 티안 푸

수송: Ocean,Land,Air,DHL,TNT

원산지: 중국

공급 능력: 50Ton

인증 : ISO

포트: Shanghai port,Qingdao port

제품 설명

P- 아세 톡시 스티렌은 포토 레지스트 (포토 레지스트)의 주성분으로서 폴리 파라 하이드 록시 스티렌을 합성하는데 사용될 수있다. 화학적으로 증폭 된 포토 레지스트의 폴리 -p- 하이드 록시 스티렌 계열은 현재 세계의 주요 포토 레지스트 제품이며, 포토 에칭 집적 회로를 처리하고 칩을 제조하는 핵심 기술 중 하나입니다. 포토 에칭 기술은 0.3-0.28μm의 선폭에서 심 자외선 (파장 248nm)까지 생산되어 0.18μm의 선폭을 생성하며, 극심한 자 외광 (파장 193nm)을 이용하여 라인 폭을 0.11 μm 마이크로 회로까지. 248nm 포토 레지스트는 일반적으로 필름 형성 수지로 폴리 -p- 하이드 록시 스티렌 유도체, 광산 발생 제로 아릴 요오도 늄염 또는 설포 늄염을 사용하고, 화학 증폭 기술을 사용하여 빛 아래에서 광산 발생 제를 방출합니다. 산은 폴리머의 가교를 촉매합니다 ( 음성 겔화) 또는 탈 보호 반응 (양성 젤라틴 화)에 의해 감광성을 크게 증가시킨다.

Metal Contents

 

AI <10ppb  <1 
Ca  <10ppb   4.5
Mg  <10ppb   <1  
Cu <10ppb    <1  
Fe  <10ppb   <1  
Na  <10ppb   9.2
Ni  <10ppb   <1 
Zn <10ppb     <1  
K <10ppb    <1 
Mn <10ppb    <1 
Cr <10ppb    <1 
SN <10ppb    0.2
AS <01ppb    0.3
Test Items Specification Results
Appearance Colorless Liquid Colorless Liquid
Purity (GC) ≥99.0% (area) 99.22% (area)
(w/w%)
Water content by KF
≤0.10% 0.02%
Clarity (10%(w/w)Methanol Soivent) Clear Clear
Total Acid Number ≤100(mgKOH/L) 13.8(mgKOH/L)

Polymerization inhibitor

200ppm-300ppm 256


4-Ethenylphenol-acetate-CAS-2628-16-2


제품 디렉토리 : 정밀 화학

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